采用密封彩鋼板 + 雙層真空玻璃隔斷做墻體隔離，隔斷地面做 10~15cm 高防滲踢腳線，墻面與地面、天花板的接縫處打防霉密封膠，形成無縫密閉屏障，防止粉體顆粒通過縫隙滲入儀器區。

隔離墻開設帶密封條的觀察窗，窗框與墻體密封處理，觀察窗高度與儀器操作臺平齊，便于實時監控實驗進程，減少開門頻次；嚴禁在隔離墻上開設通風口或管線穿孔，確需穿孔的需用密封套管封堵。

粉體區與儀器區間設雙門互鎖緩沖間，兩門禁止同時開啟，緩沖間內配備粘塵墊、風淋室、手部消毒器，人員進入儀器區前需經風淋吹落體表粉塵，鞋底粘塵處理，避免攜帶粉塵進入。

粉體區維持 -5~-10Pa 負壓 ，精密儀器區維持 +10~+15Pa 正壓 ，形成 “儀器區→緩沖間→粉體區" 的定向氣流，確保粉塵始終被限制在粉體區內，不向儀器區擴散；相鄰區域壓差≥5Pa，配備壓差傳感器實時監測，超標自動報警。

粉體區采用側送下回的氣流組織，回風口設于墻面下部，加裝粉塵過濾裝置，及時抽走實驗產生的揚塵；精密儀器區采用頂送頂回的潔凈氣流，送風經初、中、高效三級過濾，確保儀器運行環境的潔凈度。

兩區通風系統獨立設置，粉體區排風需經布袋除塵器 + 高效過濾器雙重過濾后排放，避免粉塵通過風道進入儀器區；儀器區空調系統需加裝活性炭過濾段，進一步吸附可能滲入的細微粉體顆粒。

人員通道：粉體區與儀器區分設獨立更衣區和進出通道，粉體區人員需穿防靜電防塵服，儀器區人員需穿潔凈服，兩類人員禁止跨區流動；確需進入對方區域時，需在緩沖間更換對應區域的防護裝備，重新執行凈化流程。

物料通道：設置粉體樣品專用傳遞窗（雙門互鎖、帶紫外消殺 + 除塵功能），樣品經密封包裝后放入傳遞窗，開啟內置除塵裝置清除表面粉塵，再轉入儀器區檢測；檢測后的樣品需經原通道返回粉體區，禁止在儀器區拆封或暫存。

儀器區禁止存放任何粉體材料，實驗耗材需經清潔、密封后帶入；粉體區的廢料、廢渣需密封在防靜電垃圾袋內，通過專用廢棄物通道外運，嚴禁途經儀器區。

粉體區的研磨、篩分、混合等易產塵設備，需遠離隔離墻布置，與墻間距≥1m，設備上方加裝局部集塵罩（風速控制在 1.0~1.5m/s），實時捕捉揚塵；設備下方設防泄漏托盤，防止粉體散落污染地面。

精密儀器（如激光粒度儀、電子顯微鏡、差示掃描量熱儀）需靠隔離墻另一側布置，與墻間距≥0.5m，儀器底部加裝減震墊，避免粉體區設備運行的震動影響儀器精度；儀器區地面采用防靜電環氧地坪，墻面做防塵涂層，減少積塵。

兩區銜接處禁止堆放任何物品，緩沖間內保持空曠，僅放置凈化與防護設施，確保人員與物料轉運的順暢性與安全性。

粉體區溫濕度控制在 20~28℃、相對濕度 40%~60%，防止粉體吸潮結塊或揚塵加劇；儀器區溫濕度需按設備要求精準調控（如電子顯微鏡需維持 22±2℃、濕度≤50%），避免溫濕度波動影響檢測數據。

建立分區清潔制度：粉體區用防靜電吸塵器每日清潔，地面用濕拖布擦拭；儀器區用無塵布蘸純化水擦拭，定期用 HEPA 濾網吸塵器清潔儀器表面；清潔工具嚴格分區專用，禁止混用。